- Степпер
-
Степпер (англ. stepper) — установка, использующаяся при изготовлении полупроводниковых интегральных схем. На них проводится важный этап проекционной фотолитографии — засветка фоторезиста через маску. Принцип работы схож с Диапроекторами и Фотоувеличителями, однако степперы уменьшают изображение с маски. В процессе работы степпера рисунок с маски многократно переводится в рисунок на различных частях полупроводниковой пластины.
Также могут называться «установки проекционного экспонирования и мультипликации», «проекционная система фотолитографии», «проекционная литографическая установка», «установка совмещения и экспонирования»
Работа степпера над каждой полупроводниковой пластиной состоит из двух этапов:
- позиционирование
- Экспонирование
Свое название степпер (от англ. step — шаг) получил из-за того, что каждое экспонирование производится небольшими прямоугольными участками (порядка нескольких см²); для экспонирования всей пластины её передвигают шагами, кратными размеру экспонируемой области. После каждого передвижения проводится дополнительная проверка правильности позиционирования.
Современные литографические установки могут использовать не шаговый, а сканирующий режим работы; они называются «сканнеры». При экспонировании передвигаются в противоположных направлениях и пластина и маска. Луч света имеет форму линии или сильно вытянутого прямоугольника (например использовались лучи с сечением 9x25 мм для экспонирвоания масок размером 35x25 мм).
В конце 2010-х ширина полосы засвета составляла около 24 мм, а размеры маски - около 12х18 см.
Содержание
Интерфейсы
Для загрузки и выгрузки пластин, а иногда и масок, современные степперы используют SMIF и FOUP-порты.
Рынок
М. Макушин приводит следующие характеристики рынка литографического оборудования в 2010 году[1]
2007 2008 2009 2010 Объём продаж, млрд долл. 7.14 5.39 2.64 5.67 Отгружено установок, ед 604 350 137 211 Средняя стоимость установки, млн долл. 11.9 15.4 19.3 26.8 Разработчики и производители степперов
Мировые лидеры:[1]
- ASML (51 % в 2009 году, 43 % в 2008 году)
- Nikon (39 % в 2009 году, 29 % в 2008 году)
- Canon (9 % в 2009 году, 28 % в 2008 году)
Примечания
Ссылки
- Тасит Мурки, Закон Мура против нанометров. Всё, что вы хотели знать о микроэлектронике, но почему-то не узнали… // ixbt.com
Для улучшения этой статьи желательно?: - Найти и оформить в виде сносок ссылки на авторитетные источники, подтверждающие написанное.
Категория:- Микроэлектроника
Wikimedia Foundation. 2010.